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中村供貨:日本ORC半導(dǎo)體用紫外線照射裝置VUM-3500 兼容多種應(yīng)用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù),適用于多種半導(dǎo)體制造場景。 寬頻譜光刻:具備寬帶曝光功能,可根據(jù)配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線,滿足不同光刻工藝對波長的需求。
中村庫存:日本ORC半導(dǎo)體用光刻設(shè)備PPS-8500 兼容多種應(yīng)用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù),適用于多種半導(dǎo)體制造場景。 寬頻譜光刻:具備寬帶曝光功能,可根據(jù)配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線,滿足不同光刻工藝對波長的需求。
現(xiàn)品庫存:日本ORC半導(dǎo)體用光刻設(shè)備PPS-8300P1 兼容多種應(yīng)用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù),適用于多種半導(dǎo)體制造場景。 寬頻譜光刻:具備寬帶曝光功能,可根據(jù)配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線,滿足不同光刻工藝對波長的需求。
日本ORC半導(dǎo)體用光刻設(shè)備PPS-8200P1 兼容多種應(yīng)用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù),適用于多種半導(dǎo)體制造場景。 寬頻譜光刻:具備寬帶曝光功能,可根據(jù)配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線,滿足不同光刻工藝對波長的需求。 可變數(shù)值孔徑:搭載可變 NA 功能,數(shù)值孔徑可在 0.16 和 0.1 之間變化,能夠根據(jù)不同的光刻精度要求進行調(diào)整。 多場拼
現(xiàn)貨:MITUTOYO三豐數(shù)控三坐標測量機CRYSTA-Apex V9106 產(chǎn)品特點 優(yōu)良的數(shù)字控制:能實現(xiàn)精確的坐標定位、運動控制和速度控制,確保測量的準確性和重復(fù)性,可進行復(fù)雜的測量任務(wù),提高測量效率和質(zhì)量。 多種規(guī)格尺寸:擁有不同的型號和規(guī)格,測量范圍從小型到大型工件都有相應(yīng)的機型可以匹配,能滿足各種工業(yè)領(lǐng)域?qū)Σ煌叽绻ぜ臏y量需求。
在庫現(xiàn)貨:MITUTOYO三豐數(shù)控三坐標測量機MiSTAR 555 產(chǎn)品特點 優(yōu)良的數(shù)字控制:能實現(xiàn)精確的坐標定位、運動控制和速度控制,確保測量的準確性和重復(fù)性,可進行復(fù)雜的測量任務(wù),提高測量效率和質(zhì)量。 多種規(guī)格尺寸:擁有不同的型號和規(guī)格,測量范圍從小型到大型工件都有相應(yīng)的機型可以匹配,能滿足各種工業(yè)領(lǐng)域?qū)Σ煌叽绻ぜ臏y量需求。
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