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TOPCON/日本拓普康亮度色度均勻性測(cè)量器UA-20CW 拓普康亮度色度均勻性測(cè)量器是一系列用于精確測(cè)量光的亮度和色度均勻性的儀器，以下為你介紹其常見(jiàn)型號(hào)及特點(diǎn)、工作原理、應(yīng)用領(lǐng)域等方面的內(nèi)容： 常見(jiàn)型號(hào)及特點(diǎn) UA-20C 系列高像素成像：配備 2450 萬(wàn) CMOS 相機(jī)，有效像素達(dá)到 5328×4608，可實(shí)現(xiàn)高精細(xì)測(cè)量。

TOPCON/日本拓普康亮度色度均勻性測(cè)量器UA-20CT 拓普康亮度色度均勻性測(cè)量器是一系列用于精確測(cè)量光的亮度和色度均勻性的儀器，以下為你介紹其常見(jiàn)型號(hào)及特點(diǎn)、工作原理、應(yīng)用領(lǐng)域等方面的內(nèi)容： 常見(jiàn)型號(hào)及特點(diǎn) UA-20C 系列高像素成像：配備 2450 萬(wàn) CMOS 相機(jī)，有效像素達(dá)到 5328×4608，可實(shí)現(xiàn)高精細(xì)測(cè)量。

中村現(xiàn)貨：日本ORC光刻系統(tǒng)EDi系列EDi-8310 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動(dòng)切換 GHI 線(xiàn)、GH 線(xiàn)、I 線(xiàn)，滿(mǎn)足不同光刻工藝對(duì)波長(zhǎng)的需求。

中村庫(kù)存：日本ORC光刻系統(tǒng)EDi系列EDi-8308 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動(dòng)切換 GHI 線(xiàn)、GH 線(xiàn)、I 線(xiàn)，滿(mǎn)足不同光刻工藝對(duì)波長(zhǎng)的需求。

原裝新品：日本ORC光刻系統(tǒng)EDi系列EDi-5308 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動(dòng)切換 GHI 線(xiàn)、GH 線(xiàn)、I 線(xiàn)，滿(mǎn)足不同光刻工藝對(duì)波長(zhǎng)的需求。

原裝新品：日本ORC臭氧發(fā)生器ARV-O3ME 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動(dòng)切換 GHI 線(xiàn)、GH 線(xiàn)、I 線(xiàn)，滿(mǎn)足不同光刻工藝對(duì)波長(zhǎng)的需求。